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江陰長電電晶體二次配項目

發(fā)佈日期：2020-07-17????流覽次數(shù)：179

項目名稱：J2A Bumping-Dry&J1A CP+DPS二次配工程

工作地點：江蘇省江陰市東盛西路6號

建設(shè)單位：中心長電電晶體（江陰）有限公司

建築面積：4.9萬平方米

建築層數(shù)：3層

結(jié)構(gòu)類型：鋼混框架剪力牆勁性結(jié)構(gòu)

項目特徵：12吋中段矽片製造和3D晶片加工

工程概要：1、J2A Bumping-Dry&J1A CP+DPS二次配工程2、TD移機二次配-包1及拆機