長(zhǎng)江存儲(chǔ)科技有限責(zé)任公司
發(fā)佈日期：2020-07-17????流覽次數(shù)：128
工程名稱：國(guó)家記憶體基地項(xiàng)目（一期）；國(guó)家記憶體基地項(xiàng)目（一期）二階段工程項(xiàng)目
工程地點(diǎn)：武漢光穀未來(lái)科技城內(nèi)
建設(shè)單位：長(zhǎng)江存儲(chǔ)科技有限責(zé)任公司
工程內(nèi)容：國(guó)家存儲(chǔ)基地項(xiàng)目一期通用配電購(gòu)裝（FAB1）；通用配電B標(biāo)段
建築面積：76752m2
建築層數(shù)：4層
結(jié)構(gòu)類型：鋼筋混凝土框架-剪力牆+大跨度鋼屋架
工程概要：：主廠房BUS WAY、I-LINE盤、ACB盤、SUPS及照明、插座等；配、變電所內(nèi)插座配電系統(tǒng)安裝及調(diào)試；配、變電所內(nèi)照明配電系統(tǒng)安裝及調(diào)試；含母線、I-LINE盤、ACB盤等，以及設(shè)備配電用電纜、橋架、照明等
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